光刻机

光刻机资讯

工信部推广国产重大技术装备突破,套刻精度≤8nm的光刻机在列

根据了解,工信部于9月9日印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024 年版)》(以下简称《目录》)通知,在文件列表包含国产氟化氪光刻机(110nm),和氟化氩光...

分类:业界要闻 时间:2024/9/18 阅读:2532 关键词:集成电路

消息称台积电月底将接收首台高数值孔径极紫外光刻机 单价约3.8亿美元

根据外媒报道,台积电和三星电子从阿斯麦采购了大量的极紫外光刻机。  从报道来看,台积电月底从阿斯麦接收的首台高数值孔径极紫外光刻机,是TWINSCAN EXE:5000型号。阿...

分类:业界动态 时间:2024/9/13 阅读:232 关键词:台积电

荷兰宣布将扩大光刻机的管制范围,中方回应!

据环球网报道,商务部新闻发言人就荷兰半导体出口管制问题答记者问。  问:9月6日,荷兰宣布将扩大光刻机的管制范围。请问中方对此有何评论?  答:中方注意到相关情况...

分类:业界要闻 时间:2024/9/9 阅读:2440 关键词:光刻机

EUV光刻机新竞赛

三星电子半导体(DS)部门最早将于今年年底引进High NA极紫外(EUV)设备。除了下一代曝光设备之外,我们还在开发可以检查高数值孔径掩模的设备。看来他们正在积极从事技术...

分类:业界动态 时间:2024/8/19 阅读:396 关键词:EUV光刻机

售价4亿美元的光刻机,英特尔又买了一台

英特尔首席执行官帕特·基辛格 (Pat Gelsinger) 表示,该公司将斥资 3.5 亿欧元(3.83 亿美元)购买新的“Hihg NA”EUV 工具。  英特尔于 12 月份开始接收第一台大型机器...

分类:业界动态 时间:2024/8/6 阅读:456 关键词:英特尔

光刻机巨头ASML 2024年第二季净销售额62亿欧元

荷兰半导体设备供应商ASML发布2024年第二季度财报。  财报显示,2024年第二季度,ASML实现净销售额62亿欧元,毛利率为51.5%,净利润达16亿欧元。  具体来看,第二季度...

分类:名企新闻 时间:2024/7/18 阅读:329 关键词:光刻机

冠石半导体入场首台先进电子束掩模版光刻机

宁波冠石半导体有限公司迎来关键节点,企业引入首台电子束掩模版光刻机。据悉,该设备是光掩模版40纳米技术节点量产及28纳米技术节点研发的重点设备。  宁波冠石半导体公...

分类:名企新闻 时间:2024/7/16 阅读:428 关键词:冠石

EUV光刻机争夺战,正式开打

随着决定超精细半导体工艺竞争力的极紫外(EUV)光刻设备重要性日益提升,三星电子、台积电和英特尔三大代工厂对下一代设备的争夺也愈加激烈。  此前一直犹豫是否采用下一代EUV设备的台积电CEO,放弃了内部重大活动,飞赴荷兰与ASML洽...

分类:业界动态 时间:2024/5/28 阅读:284 关键词:EUV光刻

俄罗斯推出首台光刻机:350nm

据日前新闻报道,俄罗斯第一个能够生产尺寸达 350 nm 芯片的光刻机已经制造出来并正在进行测试。俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里·什帕克在CIPR会议期间向塔斯社通报了...

分类:业界动态 时间:2024/5/27 阅读:332 关键词:光刻机

ASML正在考虑0.77NA的EUV光刻机

从相关报道看来,Hyper-NA EUV 和高生产力工具是 ASML 未来十年的主要目标。  ASML 荣誉首席技术官 Martin van den Brink 分享了通用 EUV 平台的“愿景”,其中可能包括 ...

分类:业界动态 时间:2024/5/23 阅读:408 关键词:ASML

三星联手蔡司,加码EUV光刻机

三星电子正在深化与蔡司集团在下一代EUV和芯片技术方面的合作,蔡司集团是全球唯一的极紫外(EUV)光系统供应商ASML Holding NV的光学系统唯一供应商。  三星执行董事长...

分类:业界动态 时间:2024/4/29 阅读:663 关键词:三星

商务部部长王文涛会见荷兰外贸大臣,就光刻机输华交换意见

据商务部网站消息,3月27日,商务部部长王文涛在京会见来访的荷兰外贸与发展合作大臣范吕文。双方重点就光刻机输华和加强半导体产业合作等议题深入交换意见。商务部副部长...

分类:业界要闻 时间:2024/3/28 阅读:1953 关键词:光刻机

光刻机巨头 ASML 被传将“离开”荷兰!

一名消息人士透露,因荷兰政府的反移民政策倾向,光刻机巨头ASML正计划搬离荷兰。目前,荷兰政府已成立了一个名为“贝多芬计划”的特别工作组,由首相马克·吕特亲自领导,...

分类:名企新闻 时间:2024/3/8 阅读:374 关键词:光刻机

高数值孔径EUV光刻机,重要里程碑

据路透社报道,ASML 和英特尔本周表示,后者通过打开光源并使光到达晶圆上的光刻胶,利用 ASML 的高数值孔径光刻系统实现了一个重要的里程碑。这表明光源和镜子已正确对齐...

分类:业界动态 时间:2024/2/29 阅读:345 关键词:光刻机

High NA EUV光刻机价格曝光,量产万事俱备

本周,在 2024 年先进光刻 + 图案化会议上,全球领先的纳米电子和数字技术研究与创新中心 IMEC 将展示 EUV 工艺、掩模和为实现高数值孔径(High-NA)极紫外(EUV)光刻而准...

分类:业界动态 时间:2024/2/27 阅读:465 关键词:光刻机