工信部推广国产重大技术装备突破，套刻精度≤8nm的光刻机在列
根据了解，工信部于9月9日印发《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024 年版）》（以下简称《目录》）通知，在文件列表包含国产氟化氪光刻机（110nm），和氟化氩光...
分类：业界要闻 时间：2024/9/18 阅读：2498 关键词：集成电路
消息称台积电月底将接收首台高数值孔径极紫外光刻机 单价约3.8亿美元
根据外媒报道，台积电和三星电子从阿斯麦采购了大量的极紫外光刻机。 从报道来看，台积电月底从阿斯麦接收的首台高数值孔径极紫外光刻机，是TWINSCAN EXE:5000型号。阿...
分类：业界动态 时间：2024/9/13 阅读：232 关键词：台积电
据环球网报道，商务部新闻发言人就荷兰半导体出口管制问题答记者问。 问：9月6日，荷兰宣布将扩大光刻机的管制范围。请问中方对此有何评论？ 答：中方注意到相关情况...
分类：业界要闻 时间：2024/9/9 阅读：2440 关键词：光刻机
英特尔首席执行官帕特·基辛格 (Pat Gelsinger) 表示，该公司将斥资 3.5 亿欧元（3.83 亿美元）购买新的“Hihg NA”EUV 工具。 英特尔于 12 月份开始接收第一台大型机器...
分类：业界动态 时间：2024/8/6 阅读：455 关键词：英特尔
荷兰半导体设备供应商ASML发布2024年第二季度财报。 财报显示，2024年第二季度，ASML实现净销售额62亿欧元，毛利率为51.5%，净利润达16亿欧元。 具体来看，第二季度...
分类：名企新闻 时间：2024/7/18 阅读：329 关键词：光刻机
宁波冠石半导体有限公司迎来关键节点，企业引入首台电子束掩模版光刻机。据悉，该设备是光掩模版40纳米技术节点量产及28纳米技术节点研发的重点设备。 宁波冠石半导体公...
分类：名企新闻 时间：2024/7/16 阅读：427 关键词：冠石
随着决定超精细半导体工艺竞争力的极紫外（EUV）光刻设备重要性日益提升，三星电子、台积电和英特尔三大代工厂对下一代设备的争夺也愈加激烈。 此前一直犹豫是否采用下一代EUV设备的台积电CEO，放弃了内部重大活动，飞赴荷兰与ASML洽...
分类：业界动态 时间：2024/5/28 阅读：283 关键词：EUV光刻
据日前新闻报道，俄罗斯第一个能够生产尺寸达 350 nm 芯片的光刻机已经制造出来并正在进行测试。俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里·什帕克在CIPR会议期间向塔斯社通报了...
分类：业界动态 时间：2024/5/27 阅读：332 关键词：光刻机
从相关报道看来，Hyper-NA EUV 和高生产力工具是 ASML 未来十年的主要目标。 ASML 荣誉首席技术官 Martin van den Brink 分享了通用 EUV 平台的“愿景”，其中可能包括 ...
分类：业界动态 时间：2024/5/23 阅读：408 关键词：ASML
1965年，戈登·摩尔提出摩尔定律。当价格不变时，集成电路上可容纳的元器件的数目，约每隔18-24个月便会增加一倍，性能也将提升一倍。 这个不断触碰半导体工艺极限的定律，也经常伴随着“死亡”和“新生”两方面的话题。其中就有人认...
基础电子 时间：2018/5/28 阅读：1709
步进扫描光刻系统是一种混合设各，融合了扫描投影光刻机和分步重复光刻机技术，是通过使用缩小透镜扫描一个大曝光场图像到晶片上一部分实现的。这种技术在一定程度上缓解了器件特征尺寸减小而半导体晶圆物理尺寸增加的问题。一束聚焦的狭...
基础电子 时间：2008/12/2 阅读：4901
图显示了一种简单分步重复光刻系统。掩模版放在聚焦透镜和投影系统之间，掩模图像是被缩小了5～10倍投影到衬底晶片上的。这种光学系统有很多优点：，可以利用大得多的特征...
基础电子 时间：2008/12/2 阅读：3614
对于接触式光刻机，曝光时掩模压在光刻胶的衬底晶片上，其主要优点是可以使用价格较低的设备制造出较小的特征尺寸。接触式光刻和深亚微米光源已经达到了小于0.1gm的特征尺寸，常用的光源分辨率为0.5gm左右。接触式光刻机的掩模版包括了要...
基础电子 时间：2008/12/2 阅读：3403
1引言自1995年纳米压印技术提出以来，人们希望通过该技术实现低成本、高分辨率、高效率、大面积的批量制备纳米结构。但是，传统的热压印技术需要加热、高压环节，从而造成压印环节复杂、难于控制。1999年，美国得克萨斯州大学的研究小组...
设计应用 时间：2007/12/17 阅读：1909
光电所成功研制URE-2000/17型台式紫外深层光刻机近日，中国科学院光电技术研究所为适应市场需求，成功研发了一种URE-2000/17型台式紫外光刻机，并投入批量生产。该产品采用200W直流高压汞灯(光能稳定性很高，汞灯寿命长)、双目双视场显微
新品速递 时间：2007/12/6 阅读：1755
周虎明 韩隽(中国电子科技集团公司第58研究所，江苏 无锡 214035)摘要：光刻机的匹配使用是半导体工艺大生产线上提高生产效率的一项重要措施。光刻机的匹配主要包括场镜误差的匹配和隔栅误差的匹配，如何调整相同型号光刻机的匹配使用将...
新品速递 时间：2007/4/29 阅读：3296
TWINSCAN™XT:1700iTheXT:1700iwithHydroLithimmersiontechnologydeliverstheworld’sfirst1.2hyperNAforhigh-volumemanufacturi
新品速递 时间：2007/4/29 阅读：2367
中科院<aclass="bl"title="院属机构>科研机构>高技术领域>光电技术研究所"href="javascript:void(0)">光电所</a>以其独特的技术优势和质量
新品速递 时间：2007/4/29 阅读：1415
■ [产品名称]：TG2U型光刻机 ■ [工艺方案]： 半导体设备 ■ [产品简介]： 产品特点：TG2U型光刻机是制造中，大规模集成电路，传感器，表面波元件，磁泡，微波和CCD等器件的重要光刻设备。 ■ 说 明 TG2U型光刻机主要技术参...
新品速递 时间：2007/4/29 阅读：101